射频等离子体化学气相沉积

规范用词射频等离子体化学气相沉积

英文翻译radio frequency plasma chemical vapor deposition

名词定义利用射频电磁场产生的等离子体促进化学反应降低反应温度的化学气相沉积技术。

所属学科材料科学技术 > 半导体材料 > 半导体材料制备

名词审定材料科学技术名词审定委员会

见载刊物材料科学技术名词》 科学出版社

公布时间2011年

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