低压化学气相沉积

规范用词低压化学气相沉积

英文翻译low pressure chemical vapor deposition;LP-CVD

名词定义在低于一个大气压的条件下进行的化学气相沉积。

所属学科材料科学技术 > 半导体材料 > 半导体材料制备

名词审定材料科学技术名词审定委员会

见载刊物材料科学技术名词》 科学出版社

公布时间2011年

半导体材料制备 的上级学科
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