等离子体化学气相沉积

规范用词等离子体化学气相沉积

英文翻译plasma chemical vapor deposition

名词定义将等离子体技术引入化学气相沉积,形成覆盖层的方法。

中文又称PCVD法(PCVD)

所属学科机械工程 > 机械制造工艺与设备 > 表面工程 > 气相沉积

名词审定机械工程名词审定委员会

见载刊物机械工程名词(第二分册)》 科学出版社

公布时间2003年

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