氧化掩模
规范用词
氧化掩模
英文翻译
oxidation mask
所属学科
电子学
>
电子元器件工艺与分析技术
名词审定
电子学名词审定委员会
见载刊物
《
电子学名词
》 科学出版社
公布时间
1993年
电子元器件工艺与分析技术 的上级学科
电子学
氧化掩模 相关科技名词
初缩
first minification
精缩
final minification
母版
master mask
铬版
chromium plate
干版
dry plate
乳胶版
emulsion plate
透明版
see-through plate
高分辨率版
high resolution plate;HRP
超微粒干版
plate for ultra-microminiaturization
掩模
mask
掩模对准
mask alignment
对准精度
alignment precision
光刻胶
photoresist
负性光刻胶
negative photoresist
正性光刻胶
positive photoresist
无机光刻胶
inorganic resist
多层光刻胶
multilevel resist
电子束光刻胶
electron beam resist
X射线光刻胶
X-ray resist
刷洗
scrubbing
甩胶
spinning
涂胶
photoresist coating
后烘
postbaking
光刻
photolithography
X射线光刻
X-ray lithography
电子束光刻
electron beam lithography
离子束光刻
ion beam lithography
深紫外光刻
deep-UV lithography
光刻机
mask aligner
投影光刻机
projection mask aligner
曝光
exposure
接触式曝光法
contact exposure method
接近式曝光法
proximity exposure method
光学投影曝光法
optical projection exposure method
电子束曝光系统
electron beam exposure system
分步重复系统
step-and-repeat system
显影
development
线宽
linewidth
去胶
stripping of photoresist
氧化去胶
removing of photoresist by oxidation