化学-机械抛光

规范用词化学-机械抛光

英文翻译chemical mechanical polishing;CMP

名词定义利用化学和机械同时作用去除材料表面沾污及损伤层,使其获得镜面表面的一种工艺。

所属学科材料科学技术 > 半导体材料 > 元素半导体材料

名词审定材料科学技术名词审定委员会

见载刊物材料科学技术名词》 科学出版社

公布时间2011年

元素半导体材料 的上级学科
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